Статьи за последние 2 года
   
СИСТЕМА ТРЕБОВАНИЙ К ФОТОШАБЛОНАМ ДЛЯ ПРОЕКЦИОННОЙ ФОТОЛИТОГРАФИИ, ПРИМЕНЯЕМЫМ В ПРОИЗВОДСТВЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ИЗДЕЛИЙ СОВРЕМЕННЫХ ПРОЕКТНЫХ НОРМ / Балан Н. Н., Жаворонкин Ю. Г., Иванов В. В., Панкратов А. Л., Харченко Е. Л. // Наноиндустрия.— 2023 т. 16.— C. 122-131.— русский
 
Источник: 
 - Выпуск сериального издания ( 1 )
 
Автор: 
 - Персоналии ( 5 )
Постоянная ссылка (СИД2) J2130281X53
Название СИСТЕМА ТРЕБОВАНИЙ К ФОТОШАБЛОНАМ ДЛЯ ПРОЕКЦИОННОЙ ФОТОЛИТОГРАФИИ, ПРИМЕНЯЕМЫМ В ПРОИЗВОДСТВЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ИЗДЕЛИЙ СОВРЕМЕННЫХ ПРОЕКТНЫХ НОРМ
Автор Балан Н. Н.
Автор Жаворонкин Ю. Г.
Автор Иванов В. В.
Автор Панкратов А. Л.
Автор Харченко Е. Л.
Источник Наноиндустрия
Страницы/Объём 122-131
Сокращ. назв. источника Наноиндустрия
Год 2023
Том 16
Адрес в Интернет http://elibrary.ru/item.asp?id=53742277
Постоянная ссылка (СИД) J2130281X
Ключевые слова (авторские) бюджет широты экспозиции|критические линейные размеры|проекционная фотолитография|спецификация|точность
Место хранения Удаленный доступ. Эл. регистр. НЭБ
Дата регистрации в ВИНИТИ 22.05.2023
Язык текста русский
Аннотация Оборудования и технологических требований к литографическим операциям
Тематический раздел Автоматика и радиоэлектроника