Статьи за последние 2 года |
 Система требований к фотошаблонам для проекционной фотолитографии, применяемым в производстве полупроводниковых изделий современных проектных норм / Балан Н. Н., Жаворонкин Ю. Г., Иванов В. В., Панкратов А. Л., Харченко Е. Л. // Российский форум "Микроэлектроника 2022": 8 Научная конференция "Электронная компонентная база и микроэлектронные модули", Роза Хутор, 2-8 окт., 2022: Сборник тезисов.— 2022.— C. 142-144.— русский |
|
|
| Постоянная ссылка (СИД2) |
B21117791517 |
| Название |
Система требований к фотошаблонам для проекционной фотолитографии, применяемым в производстве полупроводниковых изделий современных проектных норм |
| Автор |
Балан Н. Н. |
| Автор |
Жаворонкин Ю. Г. |
| Автор |
Иванов В. В. |
| Автор |
Панкратов А. Л. |
| Автор |
Харченко Е. Л. |
| Источник |
Российский форум "Микроэлектроника 2022": 8 Научная конференция "Электронная компонентная база и микроэлектронные модули", Роза Хутор, 2-8 окт., 2022: Сборник тезисов |
| Страницы/Объём |
142-144 |
| Год |
2022 |
| Постоянная ссылка (СИД) |
B21117791 |
| Место хранения |
Удаленный доступ (ИКТ) |
| Дата регистрации в ВИНИТИ |
14.03.2023 |
| Язык текста |
русский |
| Аннотация |
Описываются основные параметры спецификации на современные фото-шаблоны для проекционной фотолитографии, предлагается метод их оценки исходя из характеристик имеющегося оборудования и технологических требований к литографическим операциям. |
| Адрес полного текста |
|
| Тематический раздел |
Автоматика и радиоэлектроника |
| Издательский номер в РЖ |
24.01-23АБ.138 |
| Шифр ГРНТИ |
47.13.11 |
| Ключевые слова |
оптическая литография, фотошаблоны, проекционная фотолитография, технологические требования |
|